深圳市天熙科技开发有限公司电子电路湿制程化学品及半导体功能材料提供商!

NOVOTEK^®  CP100&CP200属于硫酸－双氧水体系的化学前处理产品，可以使铜面得到均匀一致的微粗化，并得到类似于研磨的外观效果；能够应用在普通化学前处理，尤其是干膜前处理等的清洁和微蚀处理上，适合精细线路制作。非常适合于高密度、细间距印刷线路板的制造。

产品特点：

*溶铜量大、无副产物、蚀刻速率稳定；
*低的蚀刻速率（仅蚀铜0.5-1.0μm）优先攻击晶界部分的铜，在铜表面创造出均匀的“一级和二级”粗糙形态的铜表面；
*NOVOTEK^® CP100中的促进剂能够改变铜表面，可以得到均匀的微蚀铜面的粗糙度，同时也可以确保微蚀后链接力的可信度，具有稳定而易操作的特点；
*微蚀面平整、均匀，结合力好,仅除去极小量的铜；
*对超精细线路板技术处理效果十分优越；
*对处理薄板材（特别是干、湿膜前处理）十分适用；
*可喷淋或浸泡，对设备无特殊要求。

产品型号：